超纯水处理系统

产品概述

超纯水系统是以反渗透（RO）、连续电除盐（EDI）、抛光混床、终端超滤及紫外线杀菌等为核心工艺，将自来水或预处理水深度净化为电阻率可达 18.2 MΩ·cm（25℃）、总有机碳（TOC）＜5ppb、细菌＜1 CFU/mL、颗粒物近乎为零的超高纯水。系统采用全封闭、模块化撬装设计，配备在线水质监测与PLC全自动控制，确保产水水质稳定满足 电子级水、分析实验室用水、医药纯化水/注射用水 等严苛标准。

本系统尤其适用于半导体、光伏、精密机械、生物医药、基因研究、高端分析测试等领域，是追求极限纯水品质的可靠选择。

工艺流程

原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化器（选配）→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透（RO）→中间水箱→二级高压泵→二级反渗透（RO）→纯水箱→增压泵→紫外线杀菌→精密过滤器→EDI（连续电除盐）→超纯水箱→增压泵→抛光混床（核级树脂）→终端除微粒子过滤器→用水点

注：对于电阻率≥18MΩ·cm、TOC＜5ppb的应用，必须配置抛光混床及终端过滤。

流程简介

第一阶段：预处理单元（可靠的前处理屏障）

多介质过滤器：去除泥沙、悬浮物、胶体，降低浊度及SDI（污染指数）。

活性炭过滤器：吸附余氯、有机物及异色异味，防止余氯氧化RO膜。

软化器（选配）：离子交换树脂去除钙、镁离子，防止RO膜结垢。

保安过滤器：精度5~1μm，拦截残留微粒，保护高压泵及RO膜。

第二阶段：反渗透系统（初级脱盐与除杂）

一级/二级反渗透：双级RO设计，总脱盐率≥99.5%，产水电导率≤5μS/cm，去除绝大部分无机盐、有机物、细菌及病毒。

优势：相比单级RO，双级工艺对硼、二氧化硅等弱电解质去除更彻底，减轻后续EDI负荷。

第三阶段：紫外线杀菌及精密过滤（协同消毒与保护）

紫外线杀菌器：

185nm：光氧化分解水中的微量有机物（TOC），将其降解为CO₂和水，是降低TOC的关键措施。

254nm：高效杀灭细菌、病毒，防止生物污染。

精密过滤器：截留紫外线处理后可能产生的微粒，保护下游EDI模块。

第四阶段：EDI（连续电除盐）—— 深度脱盐

原理：在电场作用下，阴/阳离子交换树脂连续再生，去除RO产水中残留的CO₂、SiO₂、氨氮及痕量离子。

产水指标：电阻率≥ 15MΩ·cm，TOC＜10ppb，且无需酸碱再生，环保连续运行。

第五阶段：抛光混床（最终水质抛光）

核级混床树脂：采用超高纯度、高交换容量的阴/阳树脂混合装填，将水中微量离子几乎全部去除，使电阻率稳定提升至 18MΩ·cm。

特点：抛光混床用于EDI产水后端，需定期更换。

第六阶段：除微粒子过滤器

除微粒子过滤器（0.05μm或0.1μm）：满足一般高纯水颗粒指标要求。

材质：选用聚醚砜（PES）或聚偏氟乙烯（PVDF），低溶出，耐高温灭菌。

系统核心优势

极限水质输出：电阻率可达 18MΩ·cm（25℃），TOC < 5 ppb，细菌 < 1 CFU/mL，颗粒（≥0.05μm）< 100 个/mL，满足半导体、光伏、医药、实验室最高等级标准。

全流程污染控制：集成UV（185、254nm）、EDI、抛光混床、终端超滤，逐级降低TOC、离子及微生物，杜绝二次污染。

全自动智能运行：PLC + HMI触摸屏，在线监测电阻率、TOC、流量、压力、pH、温度等参数，具备自动冲洗、故障报警、数据记录及远程传输功能，实现无人值守。

模块化撬装设计：结构紧凑，占地面积小，安装快捷，可根据现场条件灵活布局。

低运行成本：EDI取代混床酸碱再生，大大减少化学药剂消耗；抛光混床体积小，更换周期长（6~12个月）；低压RO膜能耗低，系统综合运行成本优于传统工艺。

技术规格

应用场景（超纯水关键领域）

半导体与微电子

晶圆清洗、光刻、蚀刻、化学机械抛光（CMP）

液晶面板、光伏电池、分立器件制造

医药与生物技术

注射用水（WFI）制备、细胞培养、基因测序

生物制药纯化水、临床检验分析

精密分析实验室

HPLC、IC、GC-MS、ICP-MS 等高灵敏度仪器进水

标准溶液配制、痕量分析、分子生物学实验

电力与高端制造

超临界锅炉补给水、高精度清洗

航空、精密光学、镀膜行业

其他

医院透析用水（配合特定标准）

高校科研、第三方检测中心

定制与支持

我们提供0.25 吨/小时到 200 吨/小时的全系列超纯水系统，可根据您提供的：

原水水质报告（TDS、硬度、余氯、TOC、微生物等）

产水标准（如 SEMI F63、ASTM D5127、中国药典、GB/T 11446.1）

用水量曲线（峰值/平均流量、连续或间歇运行）

现场条件（洁净等级、温湿度、布局限制）

提供一对一工艺设计与经济性分析报告。欢迎联系获取详细技术资料、业绩案例及报价。